Klasifikācija pēc tīrības
Metāliskā silīcija pulvera tīrība ir viens no kritiskākajiem faktoriem, kas nosaka tā piemērotību dažādiem pielietojumiem. Parasti to klasificē šādās klasēs:
Metalurģiskās pakāpes silīcijs (MG-SI):
Tīrība: 98% līdz 99%
Pieteikumi: galvenokārt tiek izmantots metalurģijā kā leģējošais līdzeklis alumīnija, tērauda un citos metālos. To izmanto arī silikonu un ķīmisko vielu ražošanā.
Saules pakāpes silīcijs (SOG-SI):
Tīrība: 99,99% līdz 99,999% (4N līdz 5N)
Lietojumprogrammas: Fotovoltu rūpniecībā izmanto saules bateriju un paneļu ražošanai.
Elektroniskās pakāpes silīcijs (EG-Si):
Tīrība: 99,9999% vai augstāka (6n un vairāk)
Pieteikumi: būtiska pusvadītāju, integrētu shēmu un citu augstas precizitātes elektronisko komponentu ražošanai.
Klasifikācija pēc daļiņu lieluma
Metāliskā silīcija pulvera daļiņu lielumam ir nozīmīga loma tā veiktspējā un pielietojumā. Tas tiek klasificēts šādās kategorijās:
Rupjš silīcija pulveris:
Daļiņu izmērs: 100 mikroni līdz 1 mm
Pieteikumi: Izmanto metalurģiskos procesos, piemēram, sakausējuma veidošanā un dezoksidācijā tērauda ražošanā.
Smalks silīcija pulveris:
Daļiņu izmērs: 10 mikroni līdz 100 mikroni
Lietošana: piemērota ķīmiskai sintēzei, ugunsizturīgiem materiāliem un noteiktiem elektroniskiem pielietojumiem.
Ultrafine silīcija pulveris:
Daļiņu izmērs: mazāks par 10 mikroniem (nanopowder diapazons)
Pieteikumi: Izmanto progresīvās tehnoloģijās, piemēram, litija jonu akumulatora anodos, augstas veiktspējas keramikā un specializētos pārklājumos.
Klasifikācija ar ražošanas metodi
Ražošanas metode var ietekmēt arī metāla silīcija pulvera īpašības un klasifikāciju:
Gāzi no gāzes silīcija pulveris:
Ražots, atomizējot izkausētu silīciju ar augsta spiediena gāzi. Šīs metodes rezultātā rodas sfēriskas daļiņas ar vienmērīgu izmēru sadalījumu, kas ir ideāli piemērota progresīvām lietojumiem, piemēram, 3D drukāšanai un pulvera metalurģijai.
Mehāniski slīpēts silīcija pulveris:
Ražots, sasmalcinot un malkojot silīcija metālu smalkās daļiņās. Šī metode ir rentabla un plaši izmantota rūpniecības lietojumiem.
Ķīmiskā tvaika nogulsnēšanās (CVD) silīcija pulveris:
Ražots ar ķīmiskām reakcijām tvaika fāzē, kā rezultātā elektroniskiem un fotoelektriskiem pielietojumiem rodas īpaši augstas tīrības silīcija pulveris.
Populāri tagi: Silīcija metāla pulvera klasifikācija, silīcija metāla pulvera ražotāju, piegādātāju, rūpnīcas Ķīna klasifikācija