Augsta līmeņa metāla tīrs magnija pulveris

Metode augstastīrības magnija pulveris, kurā magnija bloku karsē ar 1100 ~ 1300 grādiem, lai tas būtu sublimēts inertā gāzes vidē ar nepārtrauktu cirkulāciju, un pēc tam to atdzesē līdz istabas temperatūrai pēc laika turēšanas, un augstas tīrības magnija pulveri iegūst savākšanas ierīcē kondensācijas zonā. Kontrolējot temperatūru un inertu gāzes plūsmas ātrumu, pulvera daļiņu lielumu var efektīvi kontrolēt un ražu var uzlabot. Salīdzinot ar tradicionālo pulvera sagatavošanas metodi, tā ir vienkārša un vienkārša, cikls ir īss, izmaksas ir zemas, pulvera daļiņu izmērs ir mazs un tīrība ir augsta, kas var realizēt augstas tīrības magnija pulvera pagatavošanu lielos daudzumos ar zemām izmaksām un īsu ciklu.

1.Galīgstīrs magnija pulverisun MG-Ti pulveri tika sagatavoti ar līdzstrāvas loka plazmas metodi. Rentgenstaru difrakcija (XRD), transmisijas elektronu mikroskopija (TEM), spiediena kompozīcijas un temperatūras (PCT) metode un TG/DTA tehnoloģija tika izmantota, lai izpētītu fāzes sastāvu, mikrostruktūru un ūdeņraža absorbciju un atbrīvošanas īpašības pirms un pēc ūdeņraža absorbcijas un izdalīšanās. Rezultāti rāda, ka lielākā daļa ultrafālo Mg un Mg-Ti daļiņu ir sešstūra formas, un daļiņu izmērs ir diapazonā no 50-700 nm. Saskaņā ar Van 'T Hoff vienādojumu ūdeņraža absorbcijas platformas spiediens, kas iegūts no PCT līknes, ir aptuveni -67 Kj/mol H2, kas ir ievērojami augstāks nekā tīra magnija pulveris, -78. 6 kJ/mol H2. TG/DTA analīze rāda, ka Mg-Ti pulvera sākotnējā temperatūra pēc hidrogenēšanas ir 386 grādi, kas ir zemāka nekā hidrogenētā tīra magnija pulvera (423 grādi). Mg-Ti ultrafālais pulveris, kas iegūts, pievienojot Ti tieši Mg ar loka iztvaikošanas metodi, var ievērojami uzlabot magnija ūdeņraža uzglabāšanas termodinamiskās īpašības.

Populāri tagi: Augsta līmeņa metāla tīrs magnija pulveris, Ķīna Augsta līmeņa metāla tīrā magnija pulvera ražotāji, piegādātāji, rūpnīca